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Oberflächenkontourvermessung mikroskopischer Objekte durch Projektion statistischer Rauschmuster

  • Conference paper
Book cover Mustererkennung 1995

Part of the book series: Informatik aktuell ((INFORMAT))

Zusammenfassung

Es wird ein konfokales Verfahren zur Oberflächenprofilvermessung von Mikrostrukturen vorgestellt. Ein statistisches Muster wird mit Hilfe eines Auflichtmikroskopes auf eine glatte Objektoberfläche mit kantigem Profil projiziert. Es werden mehrere Schichten in Richtung der optischen Achse durch definierte Objekttischverstellung aufgenommen, und die scharfen Bildbereiche nach einer Scharfdetektion einer Höhe zugeordnet. Objektbereiche, die zwischen den erfassten Fokusebenen liegen, werden interpoliert.

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Authors and Affiliations

  1. Fraunhofer Institut für Chemische Technologie (ICT), Joseph-von-Fraunhofer-Str.7, 76327, Pfinztal, Deutschland

    Torsten Scheuermann, Georg Pfundt & Peter Eyerer

  2. Interdisziplinäres Zentrum für wissenschaftliches Rechnen (IWR), Ruprecht-Karls-Universität Heidelberg, Im Neuenheimer Feld 368, 69120, Heidelberg, Deutschland

    Bernd Jähne

Authors
  1. Torsten Scheuermann
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  2. Georg Pfundt
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  3. Peter Eyerer
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  4. Bernd Jähne
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Editors and Affiliations

  1. Technische Fakultät, Universität Bielefeld, Postfach 10 01 31, D-33501, Bielefeld, Deutschland

    Gerhard Sagerer , Stefan Posch  & Franz Kummert ,  & 

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© 1995 Springer-Verlag Berlin Heidelberg

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Scheuermann, T., Pfundt, G., Eyerer, P., Jähne, B. (1995). Oberflächenkontourvermessung mikroskopischer Objekte durch Projektion statistischer Rauschmuster. In: Sagerer, G., Posch, S., Kummert, F. (eds) Mustererkennung 1995. Informatik aktuell. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-79980-8_38

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-642-79980-8_38

  • Publisher Name: Springer, Berlin, Heidelberg

  • Print ISBN: 978-3-540-60293-4

  • Online ISBN: 978-3-642-79980-8

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